致力于为中国企业走出去服务
海关进出口税则子目注释
子目注释
位置:首页 > 查询下载 > 海关进出口税则子目注释
最新更新依据:国务院关税税则委员会关于调整部分本国子目注释的通知 (税委会〔2019〕51号)
商品编码:84862021  商品名称:专用或主要用于制造半导体器件或集成电路用的化学气相沉积装置(CVD)

税    目:84862021   
  
商品名称:专用或主要用于制造半导体器件或集成电路用的化学气相沉积装置(CVD)
      

商品描述:
 
    子目8486.2021专用或主要用于制造半导体器件或集成电路用的化学气相沉积装置(CVD),是一种利用化学反应生成固态物质并淀积在硅表面上的一种薄膜淀积设备。化学气相淀积设备常用的有:常压CVD设备(APCVD)、低压CVD设备(LPCVD)和等离子体增强型CVD设备(PECVD)。在集成电路圆片制造中多用来生长多层布线层间绝缘膜(SiO2膜)、电容器介质膜(Si3N4膜)和栅电极材料膜(Poly-Si膜)。其内部腔体的结构和尺寸决定了此类设备具有相当的专用性。